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XTrace就是款可匹配在隨機一(yi)架兼有偏(pian)斜法(fa)蘭盤槽 SEM上(shang)的(de)(de)微著重(zhong)Ｘx放射(she)線(xian)源。充分(fen)(fen)用該裝(zhuang)置(zhi)能夠(gou)讓SEM遵循完美重(zhong)要性(xing)上(shang)的(de)(de)微區 XRF光譜研(yan)究分(fen)(fen)析研(yan)究分(fen)(fen)析作用。而對于(yu)適中事物至重(zhong)事物使用范圍內的(de)(de)事物，其在線(xian)檢測工(gong)具限上(shang)升了 20-50倍。不僅(jin)如(ru)此，所以Ｘx放射(she)線(xian)的(de)(de)移(yi)動信號(hao)調動的(de)(de)深度深于(yu)電子生產(chan)設備束，充分(fen)(fen)用該裝(zhuang)置(zhi)還(huan)需要在線(xian)檢測工(gong)具深一(yi)點境(jing)界印刷(shua)品的(de)(de)個(ge)人信息(xi)。
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本設(she)施所采(cai)用了(le)Ｘ放射性(xing)元(yuan)素(su)孔狀軟管(guan)水平(ping)，用該水平(ping)，所有在異常小的印(yin)刷品(pin)區域(yu)劃分(fen)還可以呈(cheng)現很高(gao)的熒光屈服(fu)強度。Ｘ放射性(xing)元(yuan)素(su)孔狀軟管(guan)將(jiang)Ｘ放射性(xing)元(yuan)素(su)源的大方面(mian)放射性(xing)元(yuan)素(su)處理，并將(jiang)其聚交成外徑(jing)352um的一款 Ｘ放射性(xing)元(yuan)素(su)點。
使用QUANTAX EDS*整體的(de) XFlash®型(xing)號電(dian)空(kong)調制(zhi)熱(re)能(neng)譜探(tan)(tan)測(ce)器(qi)就好(hao)對主產(chan)地生的(de)Ｘ放射性物質(zhi)(zhi)熒光光譜圖實(shi)施(shi)采樣。 XFlash®電(dian)空(kong)調制(zhi)熱(re)能(neng)譜探(tan)(tan)測(ce)器(qi)使這個整體具備(bei)著(zhu)了(le)愈來愈高的(de)熱(re)量辨認率，還相輔相成了(le)很強的(de)4g信號采樣功能(neng)。舉(ju)個例子來說(shuo)，使用管用建筑面積 30 mm²的(de)探(tan)(tan)測(ce)器(qi)在(zai)研究鋁合(he)金物質(zhi)(zhi)時的(de)輸人(ren)運(yun)算率能(neng)夠達到 40 kcps。
Ｘ光譜(pu)分析(xi)線(xian)(xian)孔隙管方法使熒(ying)(ying)光撓度達到大大的(de)增加，時(shi)候，熒(ying)(ying)光光譜(pu)分析(xi)的(de)背(bei)底較(jiao)低(di)，以下都增加了系(xi)統對痕量的(de)化(hua)學設計元(yuan)素的(de)靈敏度。相較(jiao)于于網上(shang)束抑(yi)制的(de)的(de)信號(hao)(hao)燈(deng)，其(qi)的(de)監測限可增加 20-50倍。同時(shi)還，會因為Ｘ光譜(pu)分析(xi)線(xian)(xian)源(yuan)抑(yi)制的(de)信號(hao)(hao)燈(deng)而言(yan)高(gao)共(gong)價鍵序數的(de)化(hua)學設計元(yuan)素更有用，故此高(gao)共(gong)價鍵序數的(de)化(hua)學設計元(yuan)素的(de)監測限可增加至(zhi) 10ppm。
QUANTAX能譜(pu)(pu)儀控制(zhi)系(xi)統(tong)和微區熒(ying)光(guang)光(guang)譜(pu)(pu)圖儀控制(zhi)系(xi)統(tong)可在同樣玩(wan)家軟件界面內融入(ru)的使用(yong)，才能雙方補強，滿(man)足一定量進行(xing)分析結(jie)杲的提高。
我們合理(li)型設計(ji)：
瞄(miao)準于剖(pou)析工作任務，并不是繁(fan)復的(de)體(ti)統軟件設置(zhi)
用(yong)ESPRIT HyperMap做好面(mian)布局研究(jiu)的另外數(shu)據(ju)(ju)報(bao)告(gao)采集(ji)了每個的數(shu)據(ju)(ju)報(bao)告(gao)多形式共存儲(chu)，更方便(bian)售后的在(zai)線研究(jiu)。
檢(jian)樣(yang)可采(cai)用 EDS裝置和 micro-XRF裝置并行處理對其進行具體分(fen)析(xi)，而(er)就不(bu)需要(yao)很多的(de)檢(jian)樣(yang)中國移動(dong)。
2種進(jin)行(xing)(xing)數據(ju)分(fen)折(zhe)形式直縫結合在相同的進(jin)行(xing)(xing)數據(ju)分(fen)折(zhe)app軟件 ESPRIT中，鎖定進(jin)行(xing)(xing)數據(ju)分(fen)折(zhe)形式只需輕點鼠標鍵盤(pan)。
XTrace不是干(gan)攏每 SEM及EDS使用。
只(zhi)需吊(diao)瓶開始，即刻榮獲人(ren)格獨立(li)微區熒光(guang)(guang)光(guang)(guang)譜圖儀的(de)龐大功(gong)能表。
淺析最終(zhong)可與孤立模(mo)式相媲(pi)美。
試品(pin)傾角后(hou)可對不大范圍實現面分布區。
可(ke)以提供(gong)幾個低級濾片以抵抗衍射峰(feng)。
可以直接根據復印機(ji)掃描電鏡樣(yang)本(ben)臺(tai)，需其他的的樣(yang)本(ben)臺(tai)器(qi)。
借助(zhu)掃視電鏡產品的(de)(de)樣品臺的(de)(de)選轉隨意減少譜圖例(li)衍射峰的(de)(de)展(zhan)現。
可歪斜供試品以得到(dao)小束斑口徑。
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圖紙集中內外(wai)識別率(lv)是比較
（土(tu)樣：鉻星狀曲(qu)線掃苗(miao)步長： 25 µm左(zuo)圖(tu)：土(tu)樣臺未歪斜(xie)右圖(tu)：土(tu)樣臺歪斜(xie) 30°以方位Ｘ放射性元素源，體現了更有效的辦公空間判定率。）
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原理圖圖
廣泛(fan)應用實(shi)驗總結：
XTrace大(da)程度地(di)初始化了掃(sao)一掃(sao)電(dian)鏡種金屬件(jian)元素(su)介(jie)紹的方(fang)便性(xing)(xing)。其(qi)APP各個層(ceng)(ceng)面(mian)是指種金屬件(jian)元素(su)介(jie)紹（金屬件(jian)、崔化劑等(deng)），法(fa)藥學（水性(xing)(xing)涂料、磨砂玻璃(li)、襲擊(ji)殘(can)余物物等(deng)），地(di)殼學還有其(qi)它更多各個層(ceng)(ceng)面(mian)。
高層樣(yang)品(pin)英文的(de)表現：
靈活運(yun)(yun)用XTrace對雙層以上試品去深入分析兼有相當的其優勢。這是由(you)于(yu)雙層以上試品的內外部機構特征會(hui)(hui)比較簡化(hua)，僅(jin)靈活運(yun)(yun)用能譜儀會(hui)(hui)無發氣象(xiang)觀測到中間的區域機構特征。
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銅的單的元素規劃圖
（樣品管理：PCB多層電(dian)路板(ban)板(ban)左圖(tu)(tu)(tu)：光電(dian)彩色(se)圖(tu)(tu)(tu)面；右圖(tu)(tu)(tu)：三(san)次(ci)電(dian)子(zi)元器件彩色(se)圖(tu)(tu)(tu)面）
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（左圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu): 三(san)次(ci)智(zhi)能(neng)自動(dong)化畫(hua)像(xiang)地域(yu)中銅(tong)的(de)成分的(de)微區(qu)(qu)熒(ying)光光譜分析圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)面規(gui)(gui)劃(hua)點(dian)不均圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)區(qu)(qu)圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)。暗(an)紅色橢(tuo)圓地域(yu)為(wei)右(you)(you)圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)能(neng)譜儀面規(gui)(gui)劃(hua)點(dian)不均圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)區(qu)(qu)講解(jie)地域(yu)。右(you)(you)圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu): 三(san)次(ci)智(zhi)能(neng)自動(dong)化畫(hua)像(xiang)與能(neng)譜儀銅(tong)的(de)成分面規(gui)(gui)劃(hua)點(dian)不均圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)區(qu)(qu)圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)疊合(he)畫(hua)像(xiang)。暗(an)紅色箭號通常(chang)是指地域(yu)為(wei)焊點(dian)，其在微區(qu)(qu)熒(ying)光光譜分析圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)面規(gui)(gui)劃(hua)點(dian)不均圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)區(qu)(qu)圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)內(nei)可看(kan)見，但能(neng)譜面規(gui)(gui)劃(hua)點(dian)不均圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)區(qu)(qu)圖(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)(tu)內(nei)卻(que)觀(guan)看(kan)不足此(ci)類焊點(dian)。突然出(chu)現(xian)種相互影響的(de)原因分析就在Ｘ放射性元素所引起出(chu)數據(ju)的(de)縱深(shen)更加深(shen)入(ru)。 ）
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樣機(ji)的豐富稀土元素布局圖
（Micro-XRF (左)和EDS (右) 的多(duo)個(ge)營(ying)養(yang)(yang)原(yuan)(yuan)(yuan)素面(mian)(mian)生長區圖。圖內展(zhan)示了 Cu營(ying)養(yang)(yang)原(yuan)(yuan)(yuan)素、 Ba營(ying)養(yang)(yang)原(yuan)(yuan)(yuan)素、 Au營(ying)養(yang)(yang)原(yuan)(yuan)(yuan)素和Al營(ying)養(yang)(yang)原(yuan)(yuan)(yuan)素。從兩圖對照是(shi)可以(yi)查出來(lai)，Au營(ying)養(yang)(yang)原(yuan)(yuan)(yuan)素普遍存(cun)在的所(suo)在位(wei)置遠比能譜(pu)儀營(ying)養(yang)(yang)原(yuan)(yuan)(yuan)素面(mian)(mian)生長區圖內所(suo)展(zhan)示的多(duo)。）
窮竭其里，讓掃一(yi)掃電鏡能做的許多。
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（銅鎳鋼(gang)照片集（左）簡答 XRF譜(pu)圖和EDS譜(pu)圖的(de)(de)對比（右）。從朱紅色XRF譜(pu)圖示可看(kan)看(kan)該原輔料(liao)中存在的(de)(de)越來(lai)越多的(de)(de)痕量(liang)屬性。從 XRF譜(pu)圖的(de)(de)化學發光法研究分析結論(lun)確知該原輔料(liao)為銅合金(jin) (CuZn33)。）
靠得(de)住性更(geng)為重要的重金屬和鎳鋼判斷(duan)：
微(wei)區(qu)XRF的高明(ming)情緒化使其如此(ci)最適(shi)合(he)于鋁(lv)合(he)金(jin)，愈加(jia)是金(jin)屬質小顆粒，例如打(da)火機變形會產生的濃縮(suo)的魔(mo)能石等(deng)有機物(wu)的定性分析及(ji)司法鑒定。
PCB板(ban)器(qi)件及電路板(ban)的闡述：
回收利用XRF對於痕量稀(xi)有(you)風(feng)(feng)格(ge)的高快速度及信息激(ji)勵長(chang)度的特(te)點來(lai)定(ding)量分析相(xiang)應(ying)樣機(ji)擁(yong)有(you)尤為(wei)(wei)的優劣(lie)勢。 PCB板幾率有(you)著刺激(ji)性被(bei) RoHS信息不就能夠(gou)(gou)的有(you)危(wei)害稀(xi)有(you)風(feng)(feng)格(ge)。這稀(xi)有(you)風(feng)(feng)格(ge)就能夠(gou)(gou)被(bei)微區 XRF更靠普地檢則(ze)粗來(lai)，尤為(wei)(wei)是 RoHS等(deng)信息規(gui)定(ding)要求機(ji)器擁(yong)有(you)十分的低的檢則(ze)限。
縮聚物(wu)中的(de)五金及(ji)微害原子：
配位(wei)高(gao)分(fen)子化合(he)物通常問題下被建設過程選(xuan)取(qu)以保(bao)證特(te)定(ding)的(de)的(de)的(de)。其中的(de)就是指(zhi)了進行不銹鋼和粘土礦物當做(zuo)插(cha)入物來保(bao)證建設過程的(de)。進行 XTrace如(ru)要檢(jian)側配位(wei)高(gao)分(fen)子化合(he)物中的(de)插(cha)入物并表現出其面(mian)分(fen)布圖問題。打比方， RoHS電腦指(zhi)令中對拼裝(zhuang)機器人類淘寶寶貝的(de)檢(jian)側。
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PCBd的微區XRF和EDS面遍布(bu)講解
（較(jiao)為不(bu)同(tong)(tong)于(yu)條 PCB原(yuan)(yuan)輔(fu)料行政(zheng)區域(yu)的微區 XRF (上圖(tu)) 和(he)EDS (右(you)圖(tu))因(yin)素(su)(su)(su)面區域(yu)點圖(tu)。2種研究分析均選擇(ze)不(bu)同(tong)(tong)于(yu)條背景(jing)色圖(tu)案不(bu)同(tong)(tong)于(yu)條因(yin)素(su)(su)(su)。三幅圖(tu)下非常可(ke)觀察到(dao)的不(bu)同(tong)(tong)于(yu)背景(jing)色差異化源(yuan)自(zi)于(yu)Ｘ放射(she)(she)性稀土元(yuan)素(su)(su)(su)較(jiao)為原(yuan)(yuan)輔(fu)料很深(shen)的穿過高度。銅因(yin)素(su)(su)(su)凸(tu)顯地豐(feng)度在很深(shen)的結構的層。微區 XRF面區域(yu)點圖(tu)下的陰暗源(yuan)自(zi)于(yu)相較(jiao)為原(yuan)(yuan)輔(fu)料外(wai)面傾斜角度的Ｘ放射(she)(she)性稀土元(yuan)素(su)(su)(su)源(yuan)與原(yuan)(yuan)輔(fu)料外(wai)面凹凸(tu)有致不(bu)光(guang)滑的形貌特(te)點。陰暗相應可(ke)確(que)認原(yuan)(yuan)輔(fu)料傾斜角度坐標Ｘ放射(she)(she)性稀土元(yuan)素(su)(su)(su)源(yuan)以以減少導致。）
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縮聚物的圖象及譜圖
這種(zhong)用在材料及有危害性的(de)(de)要素(su)的(de)(de)檢測測式的(de)(de)標準的(de)(de)可揮(hui)發物(wu)光學(xue)材料圖(tu)案照片頭像ƒ(左) 和(he)譜圖(tu) (右)。微(wei)區(qu) XRF譜圖(tu)ƒ(紅(hong)色(se)的(de)(de)) 提示 了 Ni、Hg、Pb及 Br等痕量(liang)要素(su)的(de)(de)來源于。而等要素(su)用 EDSƒ (黑(hei)色(se)) 均不能探測器(qi)粗來。二種(zhong)譜圖(tu)的(de)(de)錄入(ru)生活(huo)條(tiao)件相當(dang)，均為顯示計數器(qi)率 6 kcps的(de)(de)原因下(xia)錄入(ru)了300秒(miao)。
感(gan)興趣的(de)操作(zuo)步驟菜單欄：
XTrace解(jie)析軟(ruan)件(jian)(jian)與布魯克其他一些微解(jie)析裝(zhuang)置軟(ruan)件(jian)(jian) EDS, WDS和(he)EBSD共同(tong)融(rong)合在 ESPRIT軟(ruan)件(jian)(jian)中。該融(rong)合軟(ruan)件(jian)(jian)為我們可以提供了方便(bian)快捷性
; （1）任何的了解的工具操作流(liu)程均在相同界(jie)面顯示下做出
（2）各(ge)種數據分析方法(fa)間的實(shi)操調成只需輕(qing)點(dian)無線鼠標
（3）對已相(xiang)同一圖紙(zhi)地(di)段可建立各個了解方案的會直接使用(yong)，不可隨(sui)便(bian)圖紙(zhi)位移
（4）可將多種分享的辦法得到(dao)的報告單更快合并在我們一起
對於(wu)XTrace用戶(hu)的賬(zhang)戶(hu)來說一，其(qi)他個比較的其(qi)優勢就用戶(hu)的賬(zhang)戶(hu)可不可以將(jiang) EDS和微區 XRF的化學發光法(fa)概述最后同學之間配合以擁有更(geng)安全的化學發光法(fa)概述最后。
至(zhi)強整合 – XRF和EDS參考值技巧(qiao)運(yun)用(yong)以取得更精(jing)確的報告(gao)單
ESPRIT對微(wei)區(qu) XRF譜圖參(can)(can)與研究一(yi)下(xia)時應用(yong)了種現代(dai)化的(de)(de)無標樣基礎理論(lun)技術(shu)參(can)(can)數法(fa) (Fundamental Parameter，FP)以受到精確、是(shi)真的(de)(de)嗎的(de)(de)參(can)(can)考(kao)值(zhi)研究一(yi)下(xia)后果。然而，還可采取較準標樣參(can)(can)與進幾(ji)步的(de)(de)提(ti)高(gao)。
充(chong)分(fen)回收利(li)用(yong)(yong)ESPRIT工(gong)具(ju)可也施用(yong)(yong)微區 XRF和(he)EDS的(de)降(jiang)鈣素(su)原(yuan)在(zai)線(xian)(xian)檢(jian)測(ce)但是(shi)，然而(er)使有兩(liang)種探討(tao)策略的(de)優勢均進而(er)做到。談(tan)(tan)談(tan)(tan)輕的(de)屬性， EDS降(jiang)鈣素(su)原(yuan)在(zai)線(xian)(xian)檢(jian)測(ce)探討(tao)但是(shi)很(hen)靠得(de)住(zhu)；也，微區 XRF在(zai)探討(tao)中等偏(pian)上的(de)屬性或重(zhong)的(de)屬性時(shi)其在(zai)線(xian)(xian)檢(jian)測(ce)限低至 10 ppm。這就后果(guo)著充(chong)分(fen)回收利(li)用(yong)(yong) ESPRIT工(gong)具(ju)將 EDS和(he)微區 XRF的(de)降(jiang)鈣素(su)原(yuan)在(zai)線(xian)(xian)檢(jian)測(ce)但是(shi)組(zu)合后面(mian)，能取得(de)目前(qian)截止截止幾乎所有其他一些消耗(hao)的(de)能量反射率譜儀從(cong)不取得(de)過(guo)的(de)高(gao)精(jing)度但是(shi)。
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輕松(song)的(de)探討(tao)有效途(tu)徑：
本(ben)系統(tong)(tong)化除可(ke)巧用(yong)(yong)測試(shi)機電鏡原(yuan)材料臺(tai)的(de)(de)(de)中(zhong)(zhong)國移動對其采(cai)取(qu)點(dian)定量具體(ti)具體(ti)分析(xi)(xi)和線測試(shi)機外，還可(ke)對其采(cai)取(qu)單幅(fu)或多幅(fu)XRF面(mian)占比定量具體(ti)具體(ti)分析(xi)(xi)。面(mian)占比的(de)(de)(de)信息(xi)(xi)表(biao)格(ge)(ge)統(tong)(tong)計(ji)內(nei)存在(zai)超(chao)及面(mian)占比的(de)(de)(de)信息(xi)(xi)表(biao)格(ge)(ge)統(tong)(tong)計(ji)庫(ku) (ESPRIT HyperMap)中(zhong)(zhong)，在(zai)該(gai)(gai)的(de)(de)(de)信息(xi)(xi)表(biao)格(ge)(ge)統(tong)(tong)計(ji)之中(zhong)(zhong)內(nei)存著每臺(tai)點(dian)完(wan)善的(de)(de)(de)譜圖(tu)的(de)(de)(de)信息(xi)(xi)表(biao)格(ge)(ge)統(tong)(tong)計(ji)。巧用(yong)(yong)該(gai)(gai)的(de)(de)(de)信息(xi)(xi)表(biao)格(ge)(ge)統(tong)(tong)計(ji)庫(ku)，可(ke)在(zai)多個的(de)(de)(de)時間對其采(cai)取(qu)很多要(yao)想(xiang)的(de)(de)(de)下線定量具體(ti)具體(ti)分析(xi)(xi)。
點定(ding)量分(fen)析(xi)：
將鼠標(biao)鍵十字光標(biao)放于超強面分布不均圖(tu)上的(de)指定一下后，在譜圖(tu)欄即會會出現(xian)該點的(de)譜圖(tu)。這(zhe)類，省事用戶名(ming)如何快(kuai)速認定現(xian)下座位(wei)的(de)的(de)元素成分情況報(bao)告。
線(xian)檢(jian)測：
在超級(ji)大(da)面規(gui)劃(hua)(hua)(hua)圖(tu)(tu)到任意考(kao)慮一道線，才能(neng)(neng)能(neng)(neng)獲得該條在線的屬性(xing)規(gui)劃(hua)(hua)(hua)狀態(tai)，能(neng)(neng)能(neng)(neng)是(shi)定義性(xing)能(neng)(neng)的線打(da)印機測(ce)試規(gui)劃(hua)(hua)(hua)圖(tu)(tu)，也能(neng)(neng)能(neng)(neng)是(shi)降鈣素原檢測(ce)性(xing)能(neng)(neng)的線打(da)印機測(ce)試規(gui)劃(hua)(hua)(hua)圖(tu)(tu)。
選分辯析(xi)：
;在終級面布(bu)置(zhi)圖上也(ye)就可以(yi)來進(jin)行選區別(bie)析，在圖上選用同樣的形壯(zhuang)后，好比圓角矩形、圓錐(zhui)體形孩他(ta)，所在區域內的那些點(dian)的營養成分圖片信息會集成提示 在同個譜(pu)圖示。
相研究：
面(mian)分(fen)布(bu)范圍(wei)解析的最終結(jie)果偶有時(shi)間十分(fen)的繁雜且很難解釋(shi)，特意(yi)是印刷(shua)品(pin)中普(pu)遍存在(zai)各種(zhong)各樣屬性時(shi)。這時(shi)，利(li)用(yong)率 ESPRIT全自動相(xiang)(xiang)解析輔(fu)助工具可(ke)識(shi)別出成分(fen)相(xiang)(xiang)擬的部位并將其總結(jie)為印刷(shua)品(pin)中差異的無機(ji)化學(xue)相(xiang)(xiang)。
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*XTrace requires a pre-installed QUANTAX energy-dispersive X-ray spectrometer (EDS), consisting of XFlash® silicon drift detector, SVE signal processing unit and system PC.
