傳統的(de)(de)機(ji)械研磨(mo)方式制(zhi)(zhi)備樣(yang)(yang)品(pin)(pin)斷面，斷面不可(ke)(ke)避免的(de)(de)存(cun)在機(ji)械損傷和磨(mo)料(liao)嵌入樣(yang)(yang)品(pin)(pin)引(yin)起的(de)(de)污(wu)染。使用(yong)氬離子(zi)束切割樣(yang)(yang)品(pin)(pin)制(zhi)(zhi)備，可(ke)(ke)以制(zhi)(zhi)備出沒有機(ji)械損傷和表(biao)面污(wu)染的(de)(de)平整斷面，非常(chang)適用(yong)于 制(zhi)(zhi)備電池材(cai)料(liao)和部件的(de)(de)斷面樣(yang)(yang)品(pin)(pin)，從而進行掃 描電子(zi)顯微鏡(jing)結構表(biao)征分析。Thermo Scientific CleanMillTM 為電池斷面樣(yang)(yang)品(pin)(pin)提供(gong)了完善的(de)(de)氬離子(zi)束研磨(mo)方案(an)，可(ke)(ke)實現(xian)對電子(zi)束敏(min)感材(cai)料(liao)和空(kong)氣敏(min)感材(cai)料(liao)本真狀態下的(de)(de)SEM成像和表(biao)征分析。
Thermo Scientific CleanMillTM 氬離子(zi)(zi)束斷面研(yan)磨(mo)系統（BIB-CP）旨在為精確的(de)表征提(ti)供優質高(gao)(gao)效的(de)樣品(pin)制備(bei)方案。其標配(pei)的(de) 16 keV 超(chao)高(gao)(gao)能(neng)離子(zi)(zi)源在保證研(yan)磨(mo)質量下具有(you)更(geng)強(qiang)的(de)濺射能(neng)力和更(geng)高(gao)(gao)的(de)研(yan)磨(mo)效率。同時(shi)，低能(neng)量離子(zi)(zi)源可(ke)實現對具有(you)精細結構和易受離子(zi)(zi)束輻照損傷樣品(pin)的(de)無損精拋和清潔。
諸多電池材料和部件(jian)具備(bei)電子(zi)束敏感和空(kong)氣(qi)敏感的(de)(de)(de)特性。Thermo Scientific CleanMillTM 與 CleanConnectTM 兼(jian)容，使得(de) Thermo Scientific IGST 工(gong)作流程(cheng)完善。CleanConnect 樣品(pin)(pin)(pin)(pin)轉(zhuan)移(yi)系 統提(ti)供了一套(tao)超(chao)高性價比的(de)(de)(de)集成化(hua)解決(jue)方(fang)案(an)，允許樣品(pin)(pin)(pin)(pin)在(zai)惰性氣(qi)體(ti) / 真(zhen)空(kong)下快速轉(zhuan)移(yi)至(zhi)電子(zi)顯微(wei)鏡(jing)樣品(pin)(pin)(pin)(pin)倉內。這種真(zhen)空(kong)聯(lian)鎖解決(jue)方(fang)案(an)采用(yong)直徑(jing)達 25mm 的(de)(de)(de)標(biao)準樣品(pin)(pin)(pin)(pin)臺，極大(da)地簡化(hua)了不同樣品(pin)(pin)(pin)(pin)在(zai) SEM/DualBeam 系統轉(zhuan)移(yi)的(de)(de)(de)工(gong)作。樣品(pin)(pin)(pin)(pin)可在(zai)手套(tao)箱內裝載至(zhi) CleanConnect 樣品(pin)(pin)(pin)(pin)倉內，進(jin)而通(tong)過(guo) CleanConnect 轉(zhuan)移(yi)至(zhi) CleanMill 中(zhong)進(jin)行(xing)斷(duan)面樣品(pin)(pin)(pin)(pin)制備(bei)。隨后，將(jiang)CleanMill中(zhong)制備(bei)好的(de)(de)(de) 斷(duan)面樣品(pin)(pin)(pin)(pin)采用(yong)CleanConnect 轉(zhuan)移(yi)至(zhi) Thermo Scientific SEM 中(zhong)進(jin)行(xing)微(wei)觀結構表征。整(zheng)個過(guo)程(cheng)中(zhong)樣品(pin)(pin)(pin)(pin)都處于惰性氣(qi)體(ti)保護(hu)狀態(tai)以保證其斷(duan)面完整(zheng)性。該工(gong)作流程(cheng)極大(da)地簡化(hua)了樣品(pin)(pin)(pin)(pin)轉(zhuan)移(yi)工(gong)作，提(ti)高 了結果獲取速度，實現了在(zai)本真(zhen)狀態(tai)下對空(kong)氣(qi)敏感材料的(de)(de)(de)結構表征。
關鍵優勢
•高能量(liang)離子槍(qiang)可實現快速研磨和拋光
•采用專用90°樣品臺制備(bei)截面樣品
•自動(dong)化參數設置和操(cao)作，可實現(xian)樣(yang)品(pin)旋轉和擺動(dong)操(cao)作
•可(ke)進行空氣(qi)敏感材料的(de)樣品制(zhi)備，使(shi)得賽(sai)默飛(fei)惰性氣(qi)體樣品轉移工作流(liu)程（IGST）更為(wei)完善
•配(pei)備高分辨CMOS相機和觸控屏(ping)，可(ke)實時(shi)觀(guan)察樣品研磨過程
•可選配低(di)能量離(li)子(zi)槍，實(shi)現對具有(you)精(jing)細結構(gou)和(he)易受輻照損(sun)傷樣品的 無損(sun)精(jing)拋和(he)清潔(jie)。
•可選配冷(leng)臺，在進行電子(zi)束(shu)敏感樣品的冷(leng)凍研磨時可實現自(zi)動(dong)液氮加(jia)注
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Thermo Scientific CleanMill 與 CleanConnect 和(he)全(quan)套 IGST 工作流程(cheng)兼容，實現對(dui)空(kong)氣敏(min)感材料在本真狀(zhuang)態下的表征分(fen)析。
規格參數
離子槍選擇
標配超高能量離子槍，加速電壓連(lian)續可調
• 2 – 16 keV
• 離子束電流范圍：20 – 500 A
• 濺射速率：> 500 m/hr
• 選配(pei)低能(neng)量離子槍
• 加速電壓：100 eV ;– 2 keV
• 自(zi)動化的(de)離子源設置
成像系統
帶有固定X10放(fang)大(da)功能的高分辨CMOS相(xiang)機，其數字放(fang)大(da)功能可實 現連續調至X120
樣品臺
樣(yang)(yang)品(pin)傾斜：0°到(dao)180°，0.1°增量 樣(yang)(yang)品(pin)旋轉：面內旋轉 360°
樣(yang)品擺動：面內搖擺，從(cong)±1°到 ±180°，1°/步
樣品托種類和可承載尺寸
標準(zhun)型(xing)表面拋光(guang)樣品托(tuo)
•承載樣品尺寸Ø30 mm x 15 mm CleanConnect兼容樣品托(tuo)：
•表(biao)面拋光(guang)
o承載樣品尺(chi)寸Ø28 mm x 3 mm
o可互換樣(yang)品(pin)托可承載樣(yang)品(pin)尺寸(cun)Ø20.5 mm x 8.5 mm
•截面拋光
o 90° 樣(yang)品托(tuo)：承載樣(yang)品尺寸(cun) 10 mm (長(chang)) x 10 mm (寬) x 3 mm (高(gao))
真空系統
•無油隔膜泵和渦輪分子泵，帶(dai)（皮拉尼/潘寧(ning)）真(zhen)空(kong)計(ji)
氣體供應體統
•氬氣 （純度99.999%）
•高(gao)精度氣體(ti)流量控制系(xi)統
計算機控制系統
•易操(cao)作(zuo)的觸控屏圖(tu)形用戶界(jie)面（Touch GUI）
o 系統設(she)置
o 研磨參數設置(zhi)
o 操作控制
• Touch GUI采用Windows 11系統
可選配件
• 帶有自(zi)動加注功(gong)能的液氮制冷臺，可實現無間斷冷凍(dong)磨(mo)拋
• 樣品調節(jie)定(ding)位裝置(zhi)
• 其他備(bei)件(jian)和易耗損件(jian)
• 適用于(yu)可加載CleanConnect的手套(tao)箱端口(kou)裝(zhuang)置
保修和培訓
• 1年(nian)保修(xiu)
• 設計(ji)簡化，僅需簡單培訓
• 包(bao)含使用說(shuo)明(ming)的(de)用戶(hu)手冊
安裝要求
• 預留安裝端口(kou) (其他附件不(bu)能共(gong)用此(ci)端口(kou))
• 環境：與普通顯微鏡(jing)的要(yao)求相同(tong)，見預(yu)安裝(zhuang)手冊(ce)
• 儀器右側必須留(liu)有(you)足夠(gou)空間，以便使用CleanConnect轉(zhuan)移桿
• 系統(tong)尺(chi)寸： 70 cm (寬(kuan)) x 70 cm (深(shen)) x 61 cm (高)
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由(you)CleanMill制(zhi)備的(de)NMC陰極極片截面，采用Apreo 2S成像
